等离子增强化学气相沉积

① 金属有机化学气相沉积系统（MOCVD）与LED的关系

金属有机化学气相沉积（MOCVD）是一种合成方法，尤其适合于膜合成。
而发光二极管（LED）是一种半导体器件，本无关联；只是LED中广泛用到膜技术制造。
成膜技术很多，除了MOCVD外，还有低压CVD(LPCVD)，等离子体增强CVD (PECVD)，液相外延(LPE)，溶胶凝胶(sol-gel)，化学浴沉积(CBD)等等，种类繁多，可见LED器件并不是必须使用MOCVD法。

② 等离子体辅助化学气相沉积pevcd基片上加负偏压为什么效果不好，磁控设备用都可以。为什么。哪位大侠帮个忙

你放电装置出现的问题在于：
采用了DC放电，需要电流回路。
DC放电的高压电极为负压，当基片加置负偏压时，DC电源（用于放电那个）不同通过基片分支放电，由此出现你所说的不能起辉。
你这种放电方式可以实现所谓的不等位辉光放电（太原工学院，徐重教授专利），实际上是变形的空心阴极放电，可以实现高放电电流工作。
你目前没有获得这种有益效应，可以如下尝试：
（1）先启动DC放电并保持偏压电源输出（偏压电源是否对地输出？）为零，达到放电最高功率后，再开启偏压电源；
（2）控制装置地，用绝缘物覆盖靠近电极附近的金属腔体，使放电回路向下延伸；
（3）提高偏压电源输出电压、功率，电压绝对值低于DC放电电压，二者形成不等位的空心阴极放电。

③ 微波等离子体化学气象沉积的工作原理

CVD法制备金刚石膜的工艺已经开发出很多种，其中主要有：热丝法（Hot Filament CVD, 简称HFCVD）[1]、微波法（Microwave Plasma CVD, 简称MPCVD）[2]、直流等离子体炬法（DC Plasma-jet CVD）[3]和氧-乙炔燃烧火焰法（Oxy-acetylene Combustion Flame）[4]。其中，微波法是用电磁波能量来激发反应气体。由于是无极放电，等离子体纯净，同时微波的放电区集中而不扩展，能激活产生各种原子基团如原子氢等，产生的离子的最大动能低，不会腐蚀已生成的金刚石。与热丝法相比，避免了热丝法中因热金属丝蒸发而对金刚石膜的污染[5]以及热金属丝对强腐蚀性气体如高浓度氧、卤素气体等十分敏感等缺点，使得在工艺中能够使用的反应气体的种类比HFCVD中多许多；与直流等离子体炬相比，微波功率调节连续平缓，使得沉积温度可连续稳定变化，克服了直流电弧法中因电弧的点火及熄灭而对衬底和金刚石膜的巨大热冲击而造成在DC plasma-jet CVD中金刚石膜很容易从基片上脱落[6]；通过对MPCVD沉积反应室结构的结构调整，可以在沉积腔中产生大面积而又稳定的等离子体球，因而有利于大面积、均匀地沉积金刚石膜，这一点又是火焰法所难以达到的[7]，因而微波等离子体法制备金刚石膜的优越性在所有制备法中显得十分的突出

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④ 磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别

楼主概念不对
膜层一般为蒸发镀膜、溅射镀膜、喷涂镀膜、电离镀膜等方法。内
溅射镀膜过程中，在靶与容基体之间形成了含有离子、电子、中性原子团组成的对外显中性的气体，这就是等离子体。
溅射镀膜过程分为物理气象沉积、化学气象沉积、物理/化学气象沉积他们都是在等离子体中形成的。
物理气象沉积，是等离子体中的正离子轰击靶表面轰击来的分子/原子溅射到基体表面，飞行过程中并为发生任何反应。
化学气象沉积，是等离子体中的正离子轰击靶表面轰出来的分子/原子溅射到基体表面，飞行过程中发生了化学反应。
不过一般的磁控溅射都是物理、化学气象沉积的共同结果。
我这样说楼主是否能够清楚一些？

⑤ 想进口PECVD气相沉积设备报关怎么处理

PECVD方法区别于其它CVD方法的特点在于等离子体中含有大量高能量的电子，它们可以提供化学气相沉积过程所需的激活能。电子与气相分子的碰撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程，生成活性很高的各种化学基团，因而显著降低CVD薄膜沉积的温度范围，使得原来需要在高温下才能进行的CVD过程得以在低温实现。由于PECVD方法的主要应用领域是一些绝缘介质薄膜的低温沉积，因而PECVD技术中等离子体的产生也多借助于射频的方法。本实验室使用射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PECVD），射频电源采用电容耦合方式，射频频率为27.12MHz。

⑥ 解释一下化学气相沉积法制备纳米材料

化学气相沉积可以分为有基底沉积和无基底沉积。
有基底沉积又分为催化沉积和无催化沉积；
催化沉积往往用于区域选择性沉积或特定形貌纳米材料的沉积；
无催化沉积常用于制作各种膜材料；
无基底沉积往往利用气相分解，可以得到各种纳米粉体，使用相对较少。

⑦ 等离子体增强化学气相沉积PEVCD的研究现状

标题：图抄4铱涂层的化学气相袭沉积装置示意图 Fig.4 Schematic diagram of CVD apparatus for iridium coat-ings
篇名：化学气相沉积技术与材料制备
说明：80年代中期以来美国国家航空与宇宙航天局(NASA)采用金属有机化合物化学气相沉积法(MOCVD)成功制备出铼基铱涂层复合喷管[14~19],化学气相矫JFD2001

⑧ 标准型等离子体化学气相淀积台、全自动型等离子体化学气相淀积台，是干什么用的呢

等离子体化学气相沉积是一种薄膜生长工艺，相应的仪器用来制备薄膜。标准和全自动是仪器功能上的区别。

⑨ 微波等离子体化学气象沉积是什么

微波等离子体 CVD （Microwave PCVD, MPCVD）将微波发生器产生的微波用波导管经隔离器进入反应器，并通入 CH4与 H2的混合气体，在微波的激励下，在反应室内产生辉光放电，使反应气体的分子离化，产生等离子体，在衬底上沉积得到金刚石膜。
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