天津化學鍍鎳
天津吉樂化學科技有限公司是2013-03-07注冊成立的有限責任公司，注冊地址位於天津市西青區張家窩鎮薛莊子村錦環路東（物美對過）。
天津吉樂化學科技有限公司的統一社會信用代碼/注冊號是91120111598747626W，企業法人李秀榮，目前企業處於開業狀態。
天津吉樂化學科技有限公司的經營范圍是：化工技術開發；化學鍍鎳劑（含：乳酸2.46%、蘋果酸1.78%、碳酸鈉1.4%、硫酸鎳35.43%、水）生產、銷售。（以上經營范圍涉及行業許可的憑許可證件，在有效期限內經營，國家有專項專營規定的按規定辦理。）。
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2. 求化學鍍鎳配方,工藝流程
化學鍍黑鎳工藝說明書
化學鍍黑鎳工作液是用HH118-5化學鍍黑鎳添加劑配製而成,鍍液為綠色透明液體。當鍍液調整為工作狀態即PH值9~10時，鍍液為藍色透明液體。沉積速度為5~8µm/h。使用工藝如下：
一、工藝流程
1、HH922A除油→水洗→HH942除銹活化→水洗→水洗→熱水預熱→化學鍍鎳磷合金→水洗→化學鍍黑鎳→水洗→HH118-7黑色鈍化→水洗→後處理
2、HH922A除油→水洗→HH942除銹活化→水洗→水洗→ 熱水預熱→化學鍍黑鎳→水洗→黑色鈍化(HH118-7)→水洗→後處理
說明：①工藝流程1，適應於鋼鐵、銅合金、鋁合金、鑄鐵等材質的鍍件，如鍍件要求表面硬度高，顏色為槍黑色等。
②工藝流程2，適應於鋼鐵、鋁合金、鑄鐵和銅合金直接鍍黑鎳，也能在不銹鋼、電鍍鎳和電鍍鉻上直接施鍍。
③在不銹鋼、電鍍鎳等鍍件上直接鍍黑鎳時，施鍍前需用濃鹽酸或20%硫酸（30~45℃）先進行活化處理，時間不少於10分鍾。鋁合金件施鍍時，要按鋁合金工藝條件進行。(鋁合金鍍黑鎳另附說明書)
二、工作液的配製
1、按如下配方配製工作液
硫酸鎳：25克/升
次亞磷酸鈉：25克/升
HH118-5：200ml/升（約220克/升）
2、按計算工作液的總量一半的水，分別將硫酸鎳、次亞磷酸鈉溶解，混合沉澱後，加入HH118-5充分攪拌均勻，用水補充至工作液總量所需的體積，再充分攪拌沉澱或過濾後，即為工作液。
3、用氨水調整PH值10~11(工作時保持在PH值9~10范圍內即可)。
三、施鍍的工藝參數
1、施鍍溫度：80±5℃
2、工作裝載量：1~1.5dm²/L
3、PH值：9~10，用氨水調整
4、時 間：視工件要求不少於20分鍾。
四、施鍍的重點和鍍液的維護
1、鍍槽需用耐酸鹼、耐高溫材料製成，如聚丙烯或玻璃鋼等。鍍槽最好加蓋，即能減少熱能的損耗，又能防止雜物落入。
2、施鍍過程中要經常攪拌，用機械或空氣攪拌均可。
3、工作中槽液每小時需循環過濾一次，過濾機要用專用設備，如連續過濾可起攪拌的作用。
4、由於施鍍中PH值會下降，需經常檢查PH值，並用氨水進行調整。
5、槽液的補加。以施鍍一個小時為時間段，以裝載量1dm2/L· h為基準，計算出施鍍工件實際面積相對的有效工作液總量（註：不是槽液總量）。而後按該工作液總量的10%進行補加。視現場情況，各補充材料可用水事先溶解後補充，也可用工作液溶解後補充。以上補加完成後，用水將鍍液加至規定的位置，調整PH值，經過濾後可繼續施鍍。
6、要定期對鍍槽進行倒槽清洗，清洗槽的時間應視現場工作情況和槽壁沉積物嚴重程度而定。鍍槽用3%稀硝酸浸泡後，用清水刷洗或沖洗干凈。
五、後處理
視工作表面對色澤的要求，可進行鈍化（深黑色）或不鈍化（灰黑色）處理。最後用HH932脫水防銹油或透明清漆進行封閉。鈍化工藝見「HH118-7化學鍍黑鎳鈍化液說明書」。
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好的，下完發過去。
4. 化學鍍鎳的光亮劑和穩定劑是什麼原料配製的
採用鍍鎳光亮劑中間體目前是光亮劑生產的主要方式。20世紀90年代，德國巴斯夫公司電鍍鎳中間體開始進入中國市場，在取得高額利潤的同時，也帶動了國內中間體製造業的發展。國內已武漢風帆、天津天海、廣州達志、江蘇夢得、河北金日、寧波明日等代表的中間體生產及銷售企業，不斷完善，發展，產品不斷升級換代，滿足了市場的需求，同時也促進了市場競爭的激烈性。在電鍍生產競爭日益增強的今天，掌握最新技術，降低生產成本是每個企業最有效途徑。學習掌握運用，光亮劑的復配技術，是提高電鍍質量，降低生產成本的有效捷徑。光亮劑是用多種中間體配製而成的，了解認識這些中間體的作用機理，對中間體進行科學合理的復配，決定了光亮劑的質量。筆者近年通過到「中間體」生產單位學習請教，現場配製測試等形式對光亮劑中間體不間斷的進行了研究，整理出大國內部份生產中間體廠家的產品，並選用了十幾種中間體做了鍍鎳光亮劑的配製，並在一些電鍍廠投入使用，取得了認同。現討論、介紹如下：
1 鍍鎳中間體光亮鎳中間體分為第一類和第二類兩種。
1.1 第一類光亮鎳中間體
主要起消除鍍層內應力，增加延展性，提高低電位分布能力，抗雜等作用，品種主要有：
BSI 糖精 應力消除劑 柔軟劑
BBI 雙苯磺醯亞胺 可部份取代糖精，起柔軟，整平抗雜增白作用。
ALS 丙烯基磺酸鈉 輔助光亮劑，提高金屬分布能力及延展性。
ASNA 不飽和烯烴磺化物 輔助光劑，具有良好的分散能力，防止針孔及減少主光劑消耗。
MHEE 不飽和脂肪酸衍生物，輔助光劑與BSI結合組成基本光劑，中區走位劑，與HPSS組配使用，具有卓越的低區分散能力。
MSEE 不飽和脂肪酸酯的磺化物，輔助光劑，與BSI等配合使用可提高分散能力，與吡啶衍生物和丙炔醇衍生物配合使用可提高低區的整平性。
UAS 不飽和烷基磺酸鈉 走位劑 輔助光亮劑
SPS 羧基化合物磺酸鈉 走位劑 輔助光亮劑
PESS 丙炔嗡鹽 鎳強光亮低電位走位劑
MOSS 丁炔嗡鹽 鎳白亮低電位走位劑
EHS 增加鍍層延展性，提高鍍液分散能力，增加鎳鍍層白亮度。
1.2 第二類光亮鎳中間體
主要起增強陰極極化，提高光亮填平長效等作用。主要品種有：
DEP 二乙基丙炔胺 強整平劑 光亮劑。
MPA 二甲基丙炔胺 強整平劑 光亮劑。
PABS 二乙基丙炔胺甲酸鹽 整平劑 光亮劑。
PPS 雙羥基丙烷丁炔醚 強整平劑 光亮劑（在高電流密度區特佳）
PPS-OH 吡啶-2-羥基丙磺酸鈉鹽 高整平劑（在高中電流密度區特佳）
PA 丙炔醇 整平劑 光亮劑
PAP 丙氧化丙炔醇 整平劑 光亮劑
PME 乙氧化丙炔醇 整平劑 光亮劑
POG 甘油單丙炔醚 整平劑 光亮劑
PDA 丙炔基二乙胺甲酸鹽 整平劑 光亮劑
PHE 2-丙炔基2羥烷基醚 整平劑 光亮劑
POPS 磺基丙炔醚鈉鹽 中低區填平劑 輔光劑
POPDH 炔丙基氧化羥基丙烷化合物 同炔屬醇衍生物，搭配使用，協同出光，加強整平，提高低電流區填平能力
BOZ 1.4丁炔二醇，長效光亮劑
BEO 乙氧化丁炔二醇，長效光亮劑，弱整平劑。
BMP 丙氧化丁炔二醇，長效光亮劑 弱弱整平劑。
HBE 4-羥基-2-丁炔基-2羥烷基醚 長效光亮劑
HD-M 二甲基已炔二醇 光亮劑（可作半光亮鎳，亦可作光亮鎳光亮劑中間體）
HD-N 半光亮鎳中間體 促使鍍層柔軟
TCA 水合三氯乙醚 半光亮劑 柔軟劑
1.3 其它中間體
包括潤濕劑、除雜劑、掩蔽劑等。
DC-EHS 二乙基已基硫酸鈉，鎳低泡潤濕劑適合於空氣攪拌。
A-BP 磺基丁二酸酯鈉鹽，鎳低泡潤濕劑適合於空氣攪拌。
A-MP 磺基丁二酸二乙酯鈉鹽，鎳低泡潤濕劑，適合於空氣攪拌。
A-YP 磺基丁二酸二戊酯鈉鹽，鎳低泡潤濕劑，適合空氣攪拌。
DRO 聚氧乙烯烷基酚醚硫酸鹽 鎳高泡潤濕劑，適合於陰極移動。
LRO 高泡潤濕劑，適合於陰極移動，不發灰，不起霧。
PS 丙炔磺酸鈉 低區光亮劑 填平劑雜質容忍劑
VS 烯已基磺酸鈉 走位劑 抗雜劑
HPSS 有機多硫化合物 走位劑 抗雜劑
ATP 硫脲類化合物 提高低電流區遮蓋能力，雜質容忍劑。
ATPN 羧乙基異硫脲嗡甜菜鹼 走位劑 抗雜劑
IUP 3-異硫脲基酸鹽 走位劑 抗雜劑
ALO3 炔醇基磺酸鈉 走位劑 抗雜劑
SSO3 吡啶羥基丙烷磺酸鈉，提高低電位區遮蓋能力，雜質容忍劑。
US 羧丙基異硫脲鈉鹽 走位劑 抗雜劑
2 鍍鎳光亮劑特點及類型2.1 光亮劑特點
高品質的主光劑應具備以下特點：
1) 消耗穩定，分解產物少。
2) 低電位走位佳，分散性能好。
3) 應力小，鍍層無脆性。
4) 鍍層光澤一致，厚薄均勻。
5) 出光速度較快，填平能力好，鍍層清晰。
6) 抗雜能力強，提高容忍度。
2.2 光亮劑分類
根據鍍鎳中間體的不同性能，光亮鎳添加劑可分為主光劑、輔助劑兩大類。
主光劑主要起光亮、整平作用，以第二類中間體為主。輔光劑主要是第一類中間體，在鍍槽起增加陰極極化，光亮、整平等作用。
輔助劑：協助主光劑正常發揮，將主光劑不足之處進行彌補。以第一類中間體為主進行搭配。
輔助劑按使用性能，可分為以下幾種：
1）開缸劑：以初級光亮劑，柔軟，走位，抗雜劑等成份組成應用較多，一般用以彌補主光劑不足之處。
2）柔軟劑：提高鍍層延展性走位，起抵消內應力作用。
3）走位劑：幫助低電位施鍍，提高金屬分散性能。
4）除雜劑：由多種除雜劑中間體配製而成，能除去有機或無機雜質，可按系統分為，除鐵、除銅、除鋅劑等，有利於低區走位。
5）潤濕劑：分為兩種，適用於空氣攪拌的稱為低泡潤濕劑；適用於陰極移動的稱為高泡潤濕劑。主要起消除鍍層針孔，降低鍍層表面張力，使氫氣泡不滯留於工作表面的作用。
配製第四代鍍鎳光亮劑可參考下述原則：至少有一種吡啶類化合物，如PPS或PPS-OH；至少一種丙炔類化合物如DEP、PAP、PME等；至少一種低電流密度區光亮整平中間體，如PS、PESS、PP-ESE、BP-DESE；至少一種低區走位，雜質容忍物質，如ATP、VS、ALS等。
3 鍍鎳光亮劑的配方對要求電鍍鎳的產品，不同的產品所要求的色澤會不一樣，表面的光亮度不一樣，光亮劑要依產品要求而有所變化，否則就達不到產品質量標准。
3.1普通型電鍍亮鎳
A、鍍鎳主光劑
開缸量 0.3-0.5ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：PPS-OH PDA BEO
次要成份： PS、PHE、ATP
B、鍍鎳調整劑（開缸劑柔軟劑 走位劑）
開缸量 8-10ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：BSI ALS
次要成份：PPS-OH 、PDA 、PS ALO3
3.2高整平型鍍鎳光亮劑配方
A、鍍鎳主光劑
開缸量 0.3-0.5ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：PPS-OH PDA POG
次要成份： PS、HBE、ATPN
B、鍍鎳調整劑（開缸劑柔軟劑 走位劑）
開缸量 8-10ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：BSI ALS PPS-OH
次要成份：PDA 、PS、 POG
3.3高走位劑型鍍鎳光亮劑配方
A、鍍鎳光亮劑
開缸量 0.3-0.5ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：PPS-OH PME DEP
次要成份： PS、ATPN、POPDH
B、鍍鎳調整劑（開缸劑柔軟劑 走位劑）
開缸量 8-10ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：BSI SAS ATPN
次要成份：PPS-OH、PME、POPDH、PS
3.4烏亮型鍍鎳光亮劑配方
A、鍍鎳光亮劑
開缸量 0.3-0.5ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：MPA PPS-OH PDA
次要成份： BEO、PS、SSO3
B、鍍鎳調整劑（開缸劑柔軟劑 走位劑）
開缸量 8-10ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：BSI ALS SSO3
次要成份：PPS-OH、PDA、PS
3.5白亮型光亮劑配方
A、鍍鎳光亮劑
開缸量 0.3-0.5ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：PPS-OH PESS DEP
次要成份：PHE、PDA、POG
B、鍍鎳調整劑（開缸劑柔軟劑 走位劑）
開缸量 8-10ml/L消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：BSI BBI ATPN
次要成份：PPS-OH、PDA、SAS
3.6鍍鎳除雜水
用量 1-2ml/L
主要成份：PN
次要成份： US
3.7鍍鎳潤濕劑
A、低泡濕劑
用量 1-3ml/L
主要成份：A-BP
次要成份： DC-EHS
B、高泡濕劑
用量 1-3ml/L
主要成份：DRO
4 結語用中間體配製鍍鎳光亮劑需要了解各種中間體的作用，用量、消耗量。各成分的開缸用量與千安培·小時消耗量往往比例不同。因此需經生產驗證。並認真作好紀錄，不斷調整成分比例，使其完善。這樣才能得到出光速度快，整平性能好，光亮劑各組分同步消耗的科學合理的鍍鎳光亮劑配方。
以上是筆者之拙作，願與同仁合作共同提高
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6. 張寶貴的人物經歷
主要研究方向和研究領域：
研究方向：化學，環境科學
研究領域：無機化學，分析化學，環境化學
近些年主要研究成果（論文、論著和專刊等）
1.使用鈦塗釕和鈦基PbO2作為陽極電解法制備次磷酸的研究，南開大學學報（自然科學版），2004，37（1）
2.NiB、NiP與NiPB非晶態合金的物性與催化性能研究，南開大學學報（自然科學版），2004，37（3）
3.聚四氟乙烯纖維輻射接枝制備弱酸性離子交換劑及其對Cu2+的吸附，高分子學報，2004（1）
4.有機物電化學氟化中HF的乾燥，化工新型材料，2004，32（7）
5.一種新型電解質鋰鹽的合成技術進展，化工生產與技術，2004（2）
6.使用鈦塗釕電極作為陽極電解法制備次磷酸的研究，應用化工，2004，33（3）
7.一步法制備次磷酸鈉的研究，天津化工，2003，17（3）
8.The Application of Polytetrafluoroethylene Fiber Grafted Acid as a Cation Exchanger for Removing Cu2+,Chinese Chemical Letters,Vol.14,No6，2003
9.電解硫酸鈉水溶液處理十二碳硫醇惡臭污水，城市環境與城市生態，2003增刊，16
10.鋰離子電池電解質鹽LiPF6中微量水的測定，南開大學學報（自然科學版），2003，36（4）
11.電解法制備次磷酸（英文），南開大學學報（自然科學版），2003，36（4）
12.電解氯化鈉溶液處理十二碳硫醇惡臭污水，南開大學學報（自然科學版），2003，36（1）
13.電解氫氧化鈉水溶液處理十二碳硫醇惡臭污水，安全與環境學報，2003，3（6）
14.電解法制備次磷酸鎳的研究，南開大學學報（自然科學版），2002，35（2）
15.以次磷酸鈉工業生產廢渣為原料回收亞磷酸，城市環境與城市生態，2002，15（4）
16.以次磷酸鎳為原料制備NiP和NiB非晶態合金的新方法，物理化學學報，2002，18（10）
17.次磷酸新型生產方法的研究，離子交換與吸附，2001，17（3）
18.Electrodialytic Proction of Hypophosphorous Acid, Chinese Journal of Reactive Polymers,Vol.10, No1, 2001
19.次磷酸鈉生產過程中PH3尾氣處理技術的研究，南開大學學報（自然科學版），2001，34（2）
20.催化氧化法處理十二碳硫醇惡臭污水的研究，南開大學學報（自然科學版），2001，34（1）
21.電解法制備亞磷酸，中國發明專利，申請號01142022.7，申請日期2001年9月7日，於2003年12月31日被授予發明專利，ZL 01142022.7
22.電解法制備次磷酸，中國發明專利，申請號0114204.3，申請日期2001年9月7日，於2004年7月被授予發明專利
23.電解法制備次磷酸鎳的方法，申請號200310107264.9，申請日期2003年12月9日
24.化學鍍鎳磷合金的方法，申請號200310107263.4，申請日期2003年12月9日
25.用於環丁烯碸加氫的非晶態合金催化劑及其制備與應用，中國專利，公開號CN 1375357,公開日期2002.10
26.NiP非晶態合金及其制備方法，中國專利，申請號03109062.1，申請日期2003年4月
7. 不銹鋼預鍍鎳陰極出現黑灰色是什麼原因 應該這樣解決問題
不銹鋼預鍍包括活化和預鍍，活化用硫酸陽極活化較好，而預鍍就大有學問。傳統的不銹鋼預鍍液是氯化鎳加鹽酸，而且含量較高，這種工藝預鍍效果是很好的，但最大的問題是由於陰極電流效率很低，陽極電流效率100%，陽極鎳板溶解量大大高於陰極鍍出量，時間久了，鍍液中鎳離子積累越來越多，溶液成分失去平衡，預鍍質量慢慢下降，而且目前還沒有好辦法解決找個問題，只好稀釋溶液或倒掉重配，造成很大浪費。
通過電解或化學方法在金屬或某些非金屬上鍍上一層鎳的方法，稱為鍍鎳。鍍鎳分電鍍鎳和化學鍍鎳。電鍍鎳是在由鎳鹽（稱主鹽）、導電鹽、pH緩沖劑、潤濕劑組成的電解液中，陽極用金屬鎳，陰極為鍍件，通以直流電，在陰極（鍍件）上沉積上一層均勻、緻密的鎳鍍層。從加有光亮劑的鍍液中獲得的是亮鎳，而在沒有加入光亮劑的電解液中獲得的是暗鎳。
化學鍍又稱為無電解鍍（Electroless plating），也可以稱為自催化電鍍（Autocatalytic plating）。具體過程是指：在一定條件下，水溶液中的金屬離子被還原劑還原，並且沉澱到固態基體表面上的過程。ASTM B374（ASTM，美國材料與試驗協會）中定義為Autocatalytic plating is 「deposition of a metallic coating by a controlled chemical rection that is catalyzed by the metal or alloy being deposited」。這一過程與置換鍍不同，其鍍層是可以不斷增厚的，且施鍍金屬本身也具有催化能力。
8. 掛鍍中要先鍍鎳在鍍銅，是為什麼
不銹鋼、鐵件電鍍中使用沖擊鎳打底，以保證鍍層與金屬基材的結合力。
9. 石家莊有沒有好的化學鍍鎳，我公司現有大量大小不等的碳鋼件、鋁件急需化學鍍鎳。
我也在找呢 石家莊是沒有 不過天津有的