光刻學科

1. 光刻機涉及到大學哪些專業知識

光刻機涉及到抄的知識有：光學襲、機械加工、電子電路、化學等多個學科知識。

光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，解析度、對准精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。解析度是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的解析度受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。

對准精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

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光刻機的分類

光刻機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動。

1、手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對准，對准精度可想而知不高了；

2、半自動：指的是對准可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；

3、自動： 指的是 從基板的上載下載，曝光時長和循環都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。